Foto: Belichtungskopf DWL 66 fs
Foto: Pattern-Generator
Foto: Fotomaske
Foto: Lackstruktur
Foto: Dreidimensionale Lackstruktur
Foto: Mikrolinsen
RHe MICROSYSTEMS
Foto: Hybridsubstrat
reinhardt MICROTECH / HF Substrat
Foto: Lange Koppler
Die Firma ROSE FOTOMASKEN fertigt seit 1984 Fotomasken für Forschung, Ent- wicklung und Produktion für Kunden in Europa. Die Fotomasken werden kostengünstig mit Laser-Lithographie und mit Hilfe sehr leistungsfähiger Software hergestellt und geprüft. Die Fotomasken sind mit hoher Genauigkeit und Fehlerfreiheit an den Bedarf unserer Kunden -bei Lieferzeiten von 1 bis 3 Tagen- angepasst.
Der Einsatz unserer Fotomasken erfolgt im Bereich der Halbleitertechnik, der integrierten  Optik, der Hybrid- bzw. Mikrowellentechnik, der Sensorik, der Radioastronomie und der Mikromechanik.
ROSE FOTOMASKEN bietet über die Maskentechnik auf Glasträgern hinaus, kundenspezifische Technologieschritte auf dem Wege zur Herstellung oder Entwicklung eines miniaturisierten Bauteils.
Direktschreiben nach Kundendaten
auf Wafern oder beliebigen Substraten.
(Overlayverfahren)
Dreidimensionale Belichtung von
analogen Fotolacken nach Kundendaten.
(Gray Scale Verfahren)
english version
Firmenprofil - Produkt